Szczegóły Szczegóły PDF BIBTEX RIS Tytuł artykułu Semiconductor contact layer characterization in a context of hall effect measurements Tytuł czasopisma Metrology and Measurement Systems Rocznik 2019 Wolumin vol. 26 Numer No 1 Autorzy Kowalewski, Andrzej ; Wróbel, Jarosław ; Boguski, Jacek ; Gorczyca, Kinga ; Martyniuk, Piotr Słowa kluczowe metal contact ; contact layer ; contact resistance ; Hall effect ; resistivity ; van der Pauw method ; MSM structure ; semiconductors’ characterization Wydział PAN Nauki Techniczne Zakres 109-114 Wydawca Polish Academy of Sciences Committee on Metrology and Scientific Instrumentation Data 2019.04.01 Typ Artykuły / Articles Identyfikator DOI: 10.24425/mms.2019.126324 ; e-ISSN 2300-1941 Źródło Metrology and Measurement Systems; 2019; vol. 26; No 1; 109-114 <div class="test"></div>